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寵物咬膠生產(chǎn)線是專門用于生產(chǎn)狗咬膠系列產(chǎn)品，經(jīng)過單螺桿擠出機(jī)擠出，該生產(chǎn)線可生產(chǎn)條狀、棒狀、麻花狀、雙色及多色形狀各異的寵物咬膠。愛犬咀嚼過程中，適度對愛犬的牙齒進(jìn)行按摩，同時促進(jìn)

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油炸單機(jī)系列油炸機(jī)是一種無煙型、多功能、水油混合式油炸設(shè)備，本油炸機(jī)在使用中對油層進(jìn)行可控式恒溫，均勻加熱，消除食物中的動物油，并適量供給水分，使炸品細(xì)膩、柔軟，色、香、味俱佳。油

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油水分離油炸機(jī)電加熱油炸機(jī)雞柳雞排油炸機(jī)功能：1、 全程油溫自動控制，溫度從0----230度可隨意設(shè)定，適合炸制各種工藝要求的食品。2、 加水閥設(shè)在低部油層處

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思迅軟件（13255586751,18562765393）擁有成熟的市場銷售渠道及完善的技術(shù)服務(wù)網(wǎng)絡(luò)，為客戶提供專業(yè)化、特色化的管理咨詢、項目實施、系統(tǒng)維護(hù)、專業(yè)培訓(xùn)、優(yōu)化升級等全

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全自動校直機(jī)是針對各種工件在生產(chǎn)過程中產(chǎn)生彎曲變形而設(shè)計的自動檢測校直裝置，具有測量精度高、操作簡單易學(xué)、可適應(yīng)多種工件等特點。機(jī)器采用傳感器檢測，根據(jù)工件具體情況配置壓頭和工裝，

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QHF-100風(fēng)包礦用釋壓閥自立式壓差閥裝置自力式調(diào)壓閥性能穩(wěn)定

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1360642638擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等

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鏈?zhǔn)綘t主要用于集成電路、電力電子器件，如橋式整流器、二極管、三極管等在氫氣、氮?dú)?、或氫氮混合氣體的保護(hù)下進(jìn)行焊接、封裝、烘干、還原、退火等。主要技術(shù)指標(biāo)：◆工作溫度：200℃—11

真空燒結(jié)爐主要用于電子器件、可控硅模塊、熱敏電阻、磁性材料、陶瓷金屬化行業(yè)在真空環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)、封裝、退火、焊接等工藝。真空爐技術(shù)指標(biāo)： 真空室工位數(shù)：1-3位 

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　　井式/立式真空爐主要用于半導(dǎo)體器件燒結(jié)、封焊，太陽能電池片烘干、焊接及金屬化管殼等氣密性封裝，玻璃容器的燒結(jié)及各種零件在氫氮保護(hù)下進(jìn)行的工藝?！　【秸婵諣t主要技術(shù)參數(shù)　　真空

LED專用爐主要滿足LED芯片制造行業(yè)，對圓片及殘片進(jìn)行合金、退火、擴(kuò)散、氧化等工藝。主要性能指標(biāo)：外型形式：臥式1—4管結(jié)構(gòu)，水平爐管工作溫度：200℃—1100℃恒溫區(qū)長度：≥

滿足半導(dǎo)體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。CVD系統(tǒng)性能特點：結(jié)

滿足半導(dǎo)體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。CVD系統(tǒng)性能特點：結(jié)

太陽能擴(kuò)散爐主要滿足光伏電池生產(chǎn)線對125mm×125mm、156mm×156mm多晶硅、單晶硅硅片進(jìn)行擴(kuò)散工藝。目前有第二代閉管擴(kuò)散爐和第三代軟著陸擴(kuò)散爐。 技術(shù)指標(biāo)：

網(wǎng)帶式快速燒結(jié)爐，是針對太陽能電池生產(chǎn)線專門開發(fā)的一種集燒結(jié)、烘干于一體的燒結(jié)爐。利用紅外技術(shù)和高品質(zhì)爐膛材料，提高設(shè)備的熱效率；采用先進(jìn)的溫度控制技術(shù)，保證溫度控制的度。技術(shù)指標(biāo)

氫氣還原爐主要用于電力電子器件、熱敏電阻、可控硅模塊、陶瓷金屬化等在氫氣氣氛保護(hù)下進(jìn)行還原、退火、合金等工藝，也可以進(jìn)行氧化工藝。技術(shù)指標(biāo)：工作溫度：200—1300℃ 

高純材料提純設(shè)備主要滿足高純砷等新材料制造行業(yè)，對材料進(jìn)氛保護(hù)下的燒結(jié)、升華、還原、精餾等工藝。主要性能指標(biāo)： 外型形式：臥式結(jié)構(gòu)，水平爐管工作溫度：200℃—1100℃

　　控制系統(tǒng)類產(chǎn)品：　　溫控系統(tǒng)、氣源柜、控制柜、溫控器、溫控儀　　上述系統(tǒng)可應(yīng)用于進(jìn)口設(shè)備改造，翻新等，采用中文視窗操作系統(tǒng)對爐溫、整個工藝流程進(jìn)行自動控制，并能記錄管理歷史數(shù)據(jù)

可完全代替進(jìn)口爐體，優(yōu)質(zhì)加熱爐絲，進(jìn)口保溫材料，采用國外先進(jìn)加工工藝，爐體可長期使用在高溫下，處理12英寸以下硅片，工作溫度200—1300℃。技術(shù)指標(biāo)：加熱爐絲：瑞典康泰爾高溫爐

Softcollar為進(jìn)口石英纖維棉采用德國加工工藝制成，用于擴(kuò)散爐和PECVD設(shè)備中爐體和石英管之間的隔熱保溫，解決了以往用保溫棉存在的兩大問題：一是保溫棉長時間高溫下出現(xiàn)粉化脫

擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微控

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真空爐用于真空條件下集成電路、電力電子器件生產(chǎn)線對所生產(chǎn)產(chǎn)品進(jìn)行燒結(jié)、合金、退火、焊接等工藝處理。具有控溫精度高，降溫速度快等特點。真空爐技術(shù)指標(biāo)：石英管真空室：1—3室真空度：1

真空燒結(jié)爐主要用于電子器件、可控硅模塊、熱敏電阻、磁性材料、陶瓷金屬化行業(yè)在真空環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)、封裝、退火、焊接等工藝。真空爐技術(shù)指標(biāo)： 真空室工位數(shù)：1-3位 

井式/立式真空爐主要用于半導(dǎo)體器件燒結(jié)、封焊，太陽能電池片烘干、焊接及金屬化管殼等氣密性封裝，玻璃容器的燒結(jié)及各種零件在氫氮保護(hù)下進(jìn)行的工藝。井式真空爐主要技術(shù)參數(shù) 真空

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真空爐用于真空條件下集成電路、電力電子器件生產(chǎn)線對所生產(chǎn)產(chǎn)品進(jìn)行燒結(jié)、合金、退火、焊接等工藝處理。具有控溫精度高，降溫速度快等特點。真空爐技術(shù)指標(biāo)：石英管真空室：1—3室真空度：1

真空燒結(jié)爐主要用于電子器件、可控硅模塊、熱敏電阻、磁性材料、陶瓷金屬化行業(yè)在真空環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)、封裝、退火、焊接等工藝。真空爐技術(shù)指標(biāo)： 真空室工位數(shù)：1-3位 

井式/立式真空爐主要用于半導(dǎo)體器件燒結(jié)、封焊，太陽能電池片烘干、焊接及金屬化管殼等氣密性封裝，玻璃容器的燒結(jié)及各種零件在氫氮保護(hù)下進(jìn)行的工藝。井式真空爐主要技術(shù)參數(shù) 真空

LED專用爐主要滿足LED芯片制造行業(yè)，對圓片及殘片進(jìn)行合金、退火、擴(kuò)散、氧化等工藝。主要性能指標(biāo)：外型形式：臥式1—4管結(jié)構(gòu)，水平爐管工作溫度：200℃—1100℃恒溫區(qū)長度：≥

滿足半導(dǎo)體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。CVD系統(tǒng)性能特點：結(jié)

滿足半導(dǎo)體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。CVD系統(tǒng)性能特點：結(jié)

太陽能擴(kuò)散爐主要滿足光伏電池生產(chǎn)線對125mm×125mm、156mm×156mm多晶硅、單晶硅硅片進(jìn)行擴(kuò)散工藝。目前有第二代閉管擴(kuò)散爐和第三代軟著陸擴(kuò)散爐。 技術(shù)指標(biāo)：

網(wǎng)帶式快速燒結(jié)爐，是針對太陽能電池生產(chǎn)線專門開發(fā)的一種集燒結(jié)、烘干于一體的燒結(jié)爐。利用紅外技術(shù)和高品質(zhì)爐膛材料，提高設(shè)備的熱效率；采用先進(jìn)的溫度控制技術(shù)，保證溫度控制的度。技術(shù)指標(biāo)

氫氣還原爐主要用于電力電子器件、熱敏電阻、可控硅模塊、陶瓷金屬化等在氫氣氣氛保護(hù)下進(jìn)行還原、退火、合金等工藝，也可以進(jìn)行氧化工藝。技術(shù)指標(biāo)：工作溫度：200—1300℃ 

高純材料提純設(shè)備主要滿足高純砷等新材料制造行業(yè)，對材料進(jìn)氛保護(hù)下的燒結(jié)、升華、還原、精餾等工藝。主要性能指標(biāo)： 外型形式：臥式結(jié)構(gòu)，水平爐管工作溫度：200℃—1100℃

控制系統(tǒng)類產(chǎn)品：溫控系統(tǒng)、氣源柜、控制柜、溫控器、溫控儀上述系統(tǒng)可應(yīng)用于進(jìn)口設(shè)備改造，翻新等，采用中文視窗操作系統(tǒng)對爐溫、整個工藝流程進(jìn)行自動控制，并能記錄管理歷史數(shù)據(jù)。可實時修改

可完全代替進(jìn)口爐體，優(yōu)質(zhì)加熱爐絲，進(jìn)口保溫材料，采用國外先進(jìn)加工工藝，爐體可長期使用在高溫下，處理12英寸以下硅片，工作溫度200—1300℃。技術(shù)指標(biāo)：加熱爐絲：瑞典康泰爾高溫爐

Softcollar為進(jìn)口石英纖維棉采用德國加工工藝制成，用于擴(kuò)散爐和PECVD設(shè)備中爐體和石英管之間的隔熱保溫，解決了以往用保溫棉存在的兩大問題：一是保溫棉長時間高溫下出現(xiàn)粉化脫

擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微控

擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工的硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微

氧化擴(kuò)散爐性能特點：◆具有可編程的升、降溫功能◆采用濾波器、屏蔽板等裝置，有效解決電網(wǎng)、磁場的干擾◆windowsxp全中文視窗操作系統(tǒng)，可儲存1000條曲線，每條曲線設(shè)置30步◆

鏈?zhǔn)綘t主要用于集成電路、電力電子器件，如橋式整流器、二極管、三極管等在氫氣、氮?dú)?、或氫氮混合氣體的保護(hù)下進(jìn)行焊接、封裝、烘干、還原、退火等。主要技術(shù)指標(biāo)：◆工作溫度：200℃—11

真空爐用于真空條件下集成電路、電力電子器件生產(chǎn)線對所生產(chǎn)產(chǎn)品進(jìn)行燒結(jié)、合金、退火、焊接等工藝處理。具有控溫精度高，降溫速度快等特點。真空爐技術(shù)指標(biāo)：石英管真空室：1—3室真空度：1

真空燒結(jié)爐主要用于電子器件、可控硅模塊、熱敏電阻、磁性材料、陶瓷金屬化行業(yè)在真空環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)、封裝、退火、焊接等工藝。真空爐技術(shù)指標(biāo)： 真空室工位數(shù)：1-3位 

井式/立式真空爐主要用于半導(dǎo)體器件燒結(jié)、封焊，太陽能電池片烘干、焊接及金屬化管殼等氣密性封裝，玻璃容器的燒結(jié)及各種零件在氫氮保護(hù)下進(jìn)行的工藝。井式真空爐主要技術(shù)參數(shù) 真空

LED專用爐主要滿足LED芯片制造行業(yè)，對圓片及殘片進(jìn)行合金、退火、擴(kuò)散、氧化等工藝。主要性能指標(biāo)：外型形式：臥式1—4管結(jié)構(gòu)，水平爐管工作溫度：200℃—1100℃恒溫區(qū)長度：≥

滿足半導(dǎo)體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。CVD系統(tǒng)性能特點：結(jié)

滿足半導(dǎo)體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。CVD系統(tǒng)性能特點：結(jié)

太陽能擴(kuò)散爐主要滿足光伏電池生產(chǎn)線對125mm×125mm、156mm×156mm多晶硅、單晶硅硅片進(jìn)行擴(kuò)散工藝。目前有第二代閉管擴(kuò)散爐和第三代軟著陸擴(kuò)散爐。 技術(shù)指標(biāo)：

網(wǎng)帶式快速燒結(jié)爐，是針對太陽能電池生產(chǎn)線專門開發(fā)的一種集燒結(jié)、烘干于一體的燒結(jié)爐。利用紅外技術(shù)和高品質(zhì)爐膛材料，提高設(shè)備的熱效率；采用先進(jìn)的溫度控制技術(shù)，保證溫度控制的度。技術(shù)指標(biāo)