電鍍質(zhì)量直接取決于參數(shù)控制，核心參數(shù)如下：

鍍液溫度：如電解鍍銅的鍍液溫度需控制在 20-25℃，溫度過(guò)高會(huì)導(dǎo)致銅層結(jié)晶粗糙，溫度過(guò)低則沉積速度變慢。

電流密度：電流密度過(guò)大易導(dǎo)致金屬層燒焦、脫落；過(guò)小則沉積效率低。例如化學(xué)鍍銅無(wú)需電流，電解鍍銅的電流密度通常 1-2A/dm2。

鍍液 pH 值：如化學(xué)鍍銅的鍍液 pH 需控制在 12-13（堿性環(huán)境），pH 過(guò)低會(huì)導(dǎo)致還原劑失效，無(wú)法沉銅。

鍍液純度：需定期過(guò)濾鍍液（用 5-10μm 濾芯），去除雜質(zhì)顆粒，避免雜質(zhì)導(dǎo)致金屬層出現(xiàn)針孔、麻點(diǎn)。

隨著 PCB 向 “高密度、高頻率、小型化” 發(fā)展，電鍍工藝也在不斷升級(jí)：

無(wú)鉛化：受環(huán)保法規(guī)（如 RoHS）要求，傳統(tǒng)錫鉛電鍍已逐步被無(wú)鉛錫合金（如 Sn-Cu-Ni）替代。

薄化與精細(xì)化：針對(duì) Mini LED、IC 載板等高端 PCB，需實(shí)現(xiàn) “超薄金屬層”（如金層厚度 綠色電鍍：開(kāi)發(fā)低污染鍍液（如無(wú)甲醛化學(xué)鍍銅液）、廢水回收系統(tǒng)（如銅離子回收裝置），降低電鍍過(guò)程的環(huán)境影響。

化學(xué)鍍（Electroless Plating，無(wú)電解電鍍）

核心原理：無(wú)需外接電源，通過(guò)電鍍液中的還原劑（如甲醛、次磷酸鈉）與金屬離子發(fā)生氧化還原反應(yīng)，使金屬離子在 PCB 表面（需先吸附催化劑，如鈀）自催化沉積為鍍層。

工藝特點(diǎn)：

鍍層厚度均勻性（可滲透至 PCB 盲孔、埋孔的微小縫隙，解決 “電流無(wú)法到達(dá)” 的問(wèn)題）；

無(wú)需導(dǎo)電基底（可在絕緣基材表面沉積金屬，為后續(xù)電鍍做 “導(dǎo)電種子層”）；

沉積速率慢（銅鍍層約 1~3μm/h），成本高于電解電鍍。

PCB 應(yīng)用場(chǎng)景：

PCB“盲孔 / 埋孔電鍍” 的打底（先化學(xué)鍍銅 1~2μm，形成導(dǎo)電層，再進(jìn)行電解電鍍?cè)龊瘢?

柔性 PCB（FPC）的鍍層（避免電流不均導(dǎo)致的鍍層開(kāi)裂，保證柔性基材上鍍層的完整性）；

絕緣基材（如陶瓷 PCB）的金屬化（在陶瓷表面化學(xué)鍍銅 / 鎳，實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電連接）。

垂直連續(xù)電鍍（Vertical Continuous Plating，VCP）

核心原理：PCB 以垂直姿態(tài)連續(xù)通過(guò)多個(gè)電鍍槽（依次經(jīng)過(guò)酸洗、活化、電鍍、清洗等工序），通過(guò)槽內(nèi)的導(dǎo)電輥施加電流，配合高速噴射的電鍍液，實(shí)現(xiàn) “連續(xù)化、自動(dòng)化” 電鍍。

工藝特點(diǎn)：

自動(dòng)化程度高（無(wú)需人工上下料，適合大批量流水線生產(chǎn)）；

鍍層一致性好（PCB 垂直移動(dòng) + 均勻噴射，減少工件正反面、邊緣與中心的鍍層差異）；

設(shè)備占地面積大，初期投入成本高（需配套多槽聯(lián)動(dòng)系統(tǒng)、自動(dòng)控制系統(tǒng)）。

PCB 應(yīng)用場(chǎng)景：

大批量常規(guī) PCB 的全板電鍍 / 通孔電鍍（如消費(fèi)電子 PCB、手機(jī) PCB，日均產(chǎn)能可達(dá)數(shù)萬(wàn)塊）；

要求高一致性的鍍層生產(chǎn)（如汽車電子 PCB，需保證每塊 PCB 的鍍層厚度偏差≤10%）。