廢ITO靶材回收的核心挑戰(zhàn)在于：

成分復雜：除In?O?、SnO?外，含粘結(jié)劑、金屬背板（銅/鉬）等。

高純度要求：再生銦純度需達99.99%以上，雜質(zhì)含量需嚴格控制在ppm級，否則影響新靶材性能。

銦錫分離：分離銦錫是實現(xiàn)價值化的關(guān)鍵。

閉環(huán)工藝：價值再造的精益之路

ITO靶材主流回收技術(shù)：

機械物理分離：適合較厚靶層，回收效率高。

濕法化學回收：利用酸堿進行溶解分離，適合大批量廢靶材。

熱處理工藝：部分回收方案采用高溫分離，能耗較大。

從電子廢物和廢ITO靶材等廢物來源中回收氧化銦是銦回收的一個重要方面。從這些廢源中回收氧化銦可以通過各種工藝實現(xiàn)，包括化學處理、溶劑萃取和離子交換，回收的氧化銦可用于生產(chǎn)各種半導體器件，從而減少對新銦資源的需求，并將銦開采對環(huán)境的影響降至。

ITO靶材回收價格：

ITO靶材的回收價格受多種因素影響，包括銦的市場價格、靶材的純度、回收企業(yè)的技術(shù)水平等。一般來說，銦的市場價格越高，ITO靶材的回收價格也就越高。同時，靶材的純度越高，回收價值也就越大。

具體來說，ITO靶材的回收價格通常以每公斤為單位進行計算。不同時間、不同地區(qū)的回收價格可能存在差異。因此，建議有回收需求的客戶在選擇回收企業(yè)時，要充分了解市場行情，選擇信譽良好、技術(shù)先進的回收企業(yè)。