制備完成后，ITO靶材在實(shí)際應(yīng)用中還會(huì)遇到一些問(wèn)題：

濺射不均勻：如果靶材內(nèi)部存在微小缺陷或成分偏差，濺射過(guò)程中可能出現(xiàn)局部過(guò)熱，導(dǎo)致薄膜厚度不一致。

靶材破裂：在高功率濺射時(shí)，靶材承受的熱應(yīng)力可能超出其極限，造成破裂，進(jìn)而影響生產(chǎn)線(xiàn)的連續(xù)性。

資源限制：ITO靶材依賴(lài)銦這種稀有金屬，而銦的全球儲(chǔ)量有限，價(jià)格波動(dòng)較大。這不僅推高了成本，也促使業(yè)界尋找替代方案。

隨著高科技產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，稀有金屬銦的需求日益增長(zhǎng)。銦靶材與ITO靶材作為關(guān)鍵材料，在電子、光電及半導(dǎo)體等領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。本文旨在探討銦靶材與ITO靶材的區(qū)別，以及它們?cè)诨厥占夹g(shù)、環(huán)保與經(jīng)濟(jì)效益方面的差異。

銦回收面臨的主要挑戰(zhàn)包括銦在電子設(shè)備中的低濃度和與其他金屬的合金化。傳統(tǒng)的回收方法難以有效提取，需要采用濕法冶金或火法冶金等先進(jìn)技術(shù)。同時(shí)，回收過(guò)程中需確保電子廢物流的分類(lèi)和處理，以減少污染物對(duì)回收過(guò)程的影響。

閉環(huán)之困：損耗與機(jī)遇并存

ITO靶材在濺射鍍膜過(guò)程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過(guò)去，這些價(jià)值的廢料往往被簡(jiǎn)單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。