銦靶是指以銦為主要成分的濺射靶材,是一種在材料表面鍍膜過程中用于提供銦源的材料。在真空濺射鍍膜工藝中,銦靶材在高能粒子的轟擊下,銦原子被濺射出來并沉積在基底材料表面,形成所需的銦薄膜。
優(yōu)異的光學(xué)性能:在可見光波段(380-780nm)內(nèi),ITO 薄膜的透光率通常能夠達(dá)到 80% 以上,高透光率確保了其在顯示器、太陽能電池等應(yīng)用中的良好表現(xiàn)。
顯示技術(shù)領(lǐng)域:廣泛應(yīng)用于 LCD、OLED、AMOLED 等平板顯示器件中作為透明電極,確保顯示設(shè)備既能透光顯示圖像,又能導(dǎo)電傳輸信號(hào)。
精銦的制備需經(jīng)過多步精煉,核心工藝包括:
原料預(yù)處理:以鋅冶煉副產(chǎn)物(如浸出渣、煙灰)或含銦廢料為原料,通過酸浸、萃取等方式初步分離銦。
電解精煉:將粗銦溶解為銦鹽溶液(如硫酸銦),通過電解沉積得到純度約 99.95% 的粗精銦。
深度提純:
真空蒸餾:在高真空條件下利用銦與雜質(zhì)的沸點(diǎn)差異(銦沸點(diǎn) 2080℃,雜質(zhì)如鋅沸點(diǎn) 907℃)去除低沸點(diǎn)雜質(zhì)。
區(qū)域熔煉:通過移動(dòng)加熱區(qū)使雜質(zhì)在固液界面重新分布,多次操作后可將純度提升至 6N 以上。
化學(xué)提純:利用萃取劑(如三丁基氧化膦)或離子交換樹脂進(jìn)一步去除微量金屬離子。