凈室，又稱無塵室、潔凈室或清凈室，是指一個具有低污染水平的環(huán)境，這里所指的污染來源有灰塵，空氣傳播的微生物，懸浮顆粒，和化學揮發(fā)性氣體。更準確地講，一個凈室具有一個受控的污染級別，污染級別可用每立方米的顆粒數(shù)，或者用顆粒大小來厘定的。低級別的凈室通常是沒有經過的（如沒有受控的微生物），更在意的是凈室中的灰塵。

凈室的定義為：將空間范圍內之空氣中的微塵粒子等污染物排除，而得到一個相當潔凈的環(huán)境。亦即：這個環(huán)境中的微塵粒子相當少，稱之為凈室。凈室被廣泛地應用在對環(huán)境污染特別敏感的行業(yè)，例如半導體生產、生化技術、生物技術、精密機械、制藥、和醫(yī)院內的手術室等行業(yè)等，其中以半導體業(yè)其對室內之溫濕度、潔凈度要求尤其嚴格、故其必需控制在某一個需求范圍內，才不會對制程產生影響。作為生產設施，凈室可以占據廠房很多位置。

溫濕度要求比一般空調高一般空調要求在18°C~26 °C之間，相對濕度則在40%~65%之間；凈室空調必須控制在22°C~24 °C之間，相對濕度則在45%~55%。

恒溫恒濕控制由于半導體制程對溫濕度變化的大小極為敏感，故在凈室大部分區(qū)域必須控制在± 1°C及± 3%之內。

在一個建設場地內，確定各廠房設計方案時，宜使構配件的類型統(tǒng)一。

在技術經濟合理的基礎上，廠房的體形應力求簡單，避免設置縱橫跨和多跨廠房中的高度差。

在編制廠房建筑構配件標準設計圖集時，應使用途相同的構配件具有限度的互換性。

廠房建筑設計除應符合本標準的有關規(guī)定外，還應符合現(xiàn)行有關國家標準的規(guī)定。