詳細(xì)地質(zhì)工程勘察階段：低層建筑物（高度少于24米），勘察布孔孔間距不得超過(guò)30米，高層建筑物（高度大于24米）勘察布孔孔間距不得超過(guò)25米。

初步地質(zhì)工程勘察階段：低層建筑物（高度少于24米），勘察布孔孔間距50～80米，高層建筑物（高度大于24米）勘察布孔孔間距30～50米。

地質(zhì)勘察取樣化驗(yàn)要求：每個(gè)主土層取6個(gè)以上土樣，每個(gè)場(chǎng)地取2個(gè)水樣，每個(gè)場(chǎng)地巖樣6個(gè)以上，夾層也要取樣，高層建筑物需取2個(gè)填土做易溶鹽試驗(yàn)，選取2-4個(gè)巖樣要做天然飽和試驗(yàn)，場(chǎng)地要做地震剪切波試驗(yàn)或地震性評(píng)價(jià)。如含有地下室淤泥要加做固結(jié)系數(shù)試驗(yàn)，砂層加做滲透試驗(yàn)，圓礫要做重力觸探，基坑深度超5米，要做抽水試驗(yàn)。

流動(dòng)水壓力產(chǎn)生流砂和潛蝕使土體結(jié)構(gòu)破壞(流砂是指在地下流動(dòng)水壓作用下細(xì)小顆粒隨地下水流失，造成地層塌陷或崩潰的破壞現(xiàn)象;潛蝕是指地下 流動(dòng)水壓不足以導(dǎo)致流砂，但細(xì)小顆粒仍可穿過(guò)粗顆粒孔隙而被帶走，然后形成管狀空洞，使土體結(jié)構(gòu)破壞，強(qiáng)度降低，壓縮性增加的現(xiàn)象)。

水平地質(zhì)構(gòu)造和單斜地質(zhì)構(gòu)造

1、單斜構(gòu)造：指原來(lái)水平構(gòu)造的巖層，在受地殼運(yùn)動(dòng)后巖層向同一個(gè)方向傾斜。傾斜巖層的產(chǎn)狀有三個(gè)產(chǎn)狀要素①巖層走向②巖層傾向③巖層傾角。

2、水平構(gòu)造：指未經(jīng)構(gòu)造變動(dòng)的沉積巖層，先沉積的在下，后沉積的在上。